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文献
J-GLOBAL ID：200902048674643971
整理番号：91A0154646
酸化物でパターンを描いたウエハのAr/H2プラズマスパッタによる低温においたままの表面清浄化
Low-temperature in situ surface cleaning of oxide-patterned wafers by Ar/H2 plasma sputter.
YEW T-R
(Massachusetts Inst. Technology, Massachusetts)
,
REIF R
(Massachusetts Inst. Technology, Massachusetts)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 68 号： 9 ページ： 4681-4693 発行年： 1990年11月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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