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文献
J-GLOBAL ID：200902049238042624
整理番号：91A0905121
Znの傾斜ターゲットを使った反応性プレーナマグネトロンスパッタリングシステム
Reactive Planar Magnetron Sputtering System with Obliquely Facing Targets of Zn.
TOMINAGA K
(Univ. Tokushima, Tokushima)
,
SHIRAI M
(Univ. Tokushima, Tokushima)
,
IMAI H
(Univ. Tokushima, Tokushima)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 30 号： 9B ページ： 2216-2219 発行年： 1991年09月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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