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文献
J-GLOBAL ID：200902050019471208
整理番号：88A0419892
XPSおよびAESにより研究したSi(111)上に形成されたSiOxあるいはSiO2とNiとの相互作用ならびにNi/SiOx/n-Si(111)におけるCO吸着妨害
Interaction of Ni with SiOx or SiO2 formed on Si(111) and CO adsorption inhibition in Ni/SiOx/n-Si(111) studied by XPS and AES.
ASAKAWA T
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
TANAKA K
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
TOYOSHIMA I
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
資料名：
Langmuir
(Langmuir)
巻： 4 号： 3 ページ： 521-526 発行年： 1988年05月
JST資料番号： A0231B ISSN： 0743-7463 CODEN： LANGD5 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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