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文献
J-GLOBAL ID：200902050457642732
整理番号：92A0411297
自己集合単分子膜の深UV光化学とパターン化
Deep UV photochemistry and patterning of self-assembled monolayer films.
CALVERT J M
(Naval Research Lab., Washington, D.C., USA)
,
GEORGER J H
(Naval Research Lab., Washington, D.C., USA)
,
PECKERAR M C
(Naval Research Lab., Washington, D.C., USA)
,
PEHRSSON P E
(Naval Research Lab., Washington, D.C., USA)
,
SCHNUR J M
(Naval Research Lab., Washington, D.C., USA)
,
SCHOEN P E
(Naval Research Lab., Washington, D.C., USA)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 210/211 号： 1/2 ページ： 359-363 発行年： 1992年04月15日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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