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文献
J-GLOBAL ID：200902050542378475
整理番号：90A0294433
Si(111)表面の理想的水素終端
Ideal hydrogen termination of the Si(111) surface.
HIGASHI G S
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
CHABAL Y J
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
TRUCKS G W
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
RAGHAVACHARI K
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 56 号： 7 ページ： 656-658 発行年： 1990年02月12日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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