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文献
J-GLOBAL ID：200902053011398489
整理番号：92A0168793
投影電子ビームリソグラフィー 新しい試み
Projection electron-beam lithography: A new approach.
BERGER S D
(AT & T Bell Lab., New Jersey)
,
GIBSON J M
(AT & T Bell Lab., New Jersey)
,
CAMARDA R M
(AT & T Bell Lab., New Jersey)
,
FARROW R C
(AT & T Bell Lab., New Jersey)
,
HUGGINS H A
(AT & T Bell Lab., New Jersey)
,
KRAUS J S
(AT & T Bell Lab., New Jersey)
,
LIDDLE J A
(AT & T Bell Lab., New Jersey)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 9 号： 6 ページ： 2996-2999 発行年： 1991年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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