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文献
J-GLOBAL ID：200902053115126766
整理番号：91A0732023
イオンビームスパッタ蒸着によって堆積した強誘電体薄膜のプロセスと構造の関係
Processing-structure relations for ferroelectric thin films deposited by ion beam sputter deposition.
KINGON A
(North Carolina State Univ., North Carolina, USA)
,
AMEEN M
(North Carolina State Univ., North Carolina, USA)
,
AUCIELLO O
(Microelectronics Center of North Carolina, NC)
,
GIFFORD K
(North Carolina State Univ., North Carolina, USA)
,
AL-SHAREEF H
(North Carolina State Univ., North Carolina, USA)
,
GRAETTINGER T
(North Carolina State Univ., North Carolina, USA)
,
ROU S-H
(North Carolina State Univ., North Carolina, USA)
,
HREN P
(North Carolina State Univ., North Carolina, USA)
資料名：
Ferroelectrics
(Ferroelectrics)
巻： 116 号： 1/2 ページ： 35-49 発行年： 1991年04月
JST資料番号： D0777A ISSN： 0015-0193 CODEN： FEROA8 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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