文献
J-GLOBAL ID:200902053159663360
整理番号:87A0244332
化学気相成長法でGe基板に作ったGeの表面形態
Surface morphology of chemical vapor deposition grown Ge on Ge substrates.
著者 (1件):
AHARONI H
(Ben Gurion Univ. Negev, Beer Sheva, ISR)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
4
号:
6
ページ:
2482-2491
発行年:
1986年11月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)