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文献
J-GLOBAL ID:200902053268973484   整理番号:86A0345832

分子ビームエピタキシー法による正常および反転界面の形成の動力学 高エネルギー電子回折によるGaAs/AlxGa1-xAs(100)系多重量子井戸構造の動特性研究

Kinetics of the formation of normal and inverted molecular beam epitaxial interfaces: A reflection high-energy electron diffraction dynamics study of GaAs/AlxGa1-xAs(100) multiple quantum wells.
著者 (4件):
YEN M Y
(Univ. Southern California)
LEE T C
(Univ. Southern California)
CHEN P
(Univ. Southern California)
MADHUKAR A
(Univ. Southern California)

資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)

巻:号:ページ: 590-593  発行年: 1986年03月 
JST資料番号: E0974A  ISSN: 1071-1023  CODEN: JVTBD9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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