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文献
J-GLOBAL ID：200902053639763127
整理番号：82A0381983
X線光電子分光法による酸化ビスマスの薄膜の特性評価
Characterisation of thin films of bismuth oxide by X-ray photoelectron spectroscopy.
DHARMADHIKARI V S
(Univ. New Mexico)
,
SAINKAR S R
(National Chemical Lab., India)
,
BADRINARAYAN S
(National Chemical Lab., India)
,
GOSWAMI A
(National Chemical Lab., India)
資料名：
Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena
(Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena)
巻： 25 号： 2/3 ページ： 181-189 発行年： 1982年02月
JST資料番号： D0266C ISSN： 0368-2048 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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