文献
J-GLOBAL ID:200902053723597437
整理番号:90A0684071
適度にドープされたSiにおける電子と正孔のキャリア・ダイナミックス
Carrier dynamics of electrons and holes in moderately doped silicon.
著者 (2件):
VAN EXTER M
(IBM Research Division, New York)
,
GRISCHKOWSKY D
(IBM Research Division, New York)
資料名:
Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics
(Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics)
巻:
41
号:
17
ページ:
12140-12149
発行年:
1990年06月15日
JST資料番号:
D0746A
ISSN:
1098-0121
CODEN:
PRBMDO
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)