文献
J-GLOBAL ID:200902053977868708
整理番号:90A0296811
赤外レーザ干渉温度測定 半導体ウエハ温度を測定するための非侵入法
Infrared-laser interferometric thermometry: A nonintrusive technique for measuring semiconductor wafer temperatures.
著者 (2件):
DONNELLY V M
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
MCCAULLEY J A
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
8
号:
1
ページ:
84-92
発行年:
1990年01月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)