文献
J-GLOBAL ID:200902054035615126
整理番号:87A0061031
イオンビーム誘起けい化物化と大規模集積回路プロセスにおけるその利用
Ion-beam-induced silicidation and its use in very-large-scale integration processing.
著者 (3件):
MAEX K
(Katholieke Univ. Leuven, Leuven, BEL)
,
VAN DEN HOVE L
(Katholieke Univ. Leuven, Leuven, BEL)
,
DE KEERSMAECKER R F
(Katholieke Univ. Leuven, Leuven, BEL)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
140
号:
1
ページ:
149-161
発行年:
1986年06月16日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)