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文献
J-GLOBAL ID：200902055217828644
整理番号：86A0530816
レーザCVDによるタングステン薄膜の形成
Formation of tungsten thin film with laser CVD.
大西寛
(三菱電機生産技研)
,
森田訓子
(三菱電機生産技研)
,
高浜あきら
(三菱電機生産技研)
,
星之内進
(三菱電機生産技研)
資料名：
電気学会光・量子デバイス研究会資料
(電気学会研究会資料)
巻： OQD-86 号： 78-83 ページ： 31-38(OQD-86-81) 発行年： 1986年09月08日
JST資料番号： Z0922A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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