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文献
J-GLOBAL ID：200902055615009920
整理番号：87A0235776
軟X線および極端紫外波長における狭帯域反射率に対する層状合成微細構造の最適化
Optimization of layered synthetic microstructures for narrowband reflectivity at soft x-ray and EUV wavelengths.
MEEKINS J F
(U.S. Naval Research Lab., Washington, D.C., USA)
,
CRUDDACE R G
(U.S. Naval Research Lab., Washington, D.C., USA)
,
GURSKY H
(U.S. Naval Research Lab., Washington, D.C., USA)
資料名：
Applied Optics
(Applied Optics)
巻： 25 号： 16 ページ： 2757-2763 発行年： 1986年08月15日
JST資料番号： B0026B ISSN： 1559-128X CODEN： APOPAI 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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