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文献
J-GLOBAL ID：200902056613269026
整理番号：90A0720999
斜め酸素衝撃にさらしたシリコンの二次イオン収量とエロージョン速度に対する表面粗さの効果
Effect of surface roughening on secondary ion yields and erosion rates of silicon subject to oblique oxygen bombardment.
WITTMAACK K
(Perkin Elmer Surface Science GmbH, Oberschleissheim, DEU)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 8 号： 3 Pt.2 ページ： 2246-2250 発行年： 1990年05月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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