文献
J-GLOBAL ID:200902057119556701
整理番号:91A0780973
薄膜の化学蒸着における流れ現象
Flow phenomena in chemical vapor deposition of thin films.
著者 (3件):
JENSEN K F
(Massachusetts Inst. Technology, Massachusetts)
,
EINSET F O
(Univ. Minnesota, Minnesota)
,
FOTIADIS D I
(Univ. Minnesota, Minnesota)
資料名:
Annual Review of Fluid Mechanics
(Annual Review of Fluid Mechanics)
巻:
23
ページ:
197-232
発行年:
1991年
JST資料番号:
A0044A
ISSN:
0066-4189
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)