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J-GLOBAL ID：200902059291257808 整理番号：85A0340816

メルト表面を被覆したフローティングゾーン法による成長じまのないSi結晶

Striation-free silicon crystals by float-zoning with surface-coated melt.

著者 (2件)：

EYER A

(Univ. Freiburg, Fed Rep of Germany)

LEISTE H

(Univ. Freiburg, Fed Rep of Germany)

資料名：

Journal of Crystal Growth (Journal of Crystal Growth)

巻： 71 号： 1 ページ： 249-252 発行年： 1985年01月
JST資料番号： B0942A ISSN： 0022-0248 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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