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文献
J-GLOBAL ID：200902059499847331
整理番号：84A0310566
化学蒸着したSi膜における応力
Stress in chemically vapour-deposited silicon films.
ADAMCZEWSKA J
(Inst. Electron Technology, Warsaw)
,
BUDZY<span style=text-decoration:overline>N ́</span>SKI T
(Inst. Electron Technology, Warsaw)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 113 号： 4 ページ： 271-285 発行年： 1984年03月30日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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