文献
J-GLOBAL ID:200902062220060311
整理番号:90A0679859
水素と(111)Si-SiO2界面欠陥との化学反応速度
Chemical kinetics of hydrogen and (111)Si-SiO2 interface defects.
著者 (2件):
BROWER K L
(Sandia National Lab., New Mexico)
,
MYERS S M
(Sandia National Lab., New Mexico)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
57
号:
2
ページ:
162-164
発行年:
1990年07月09日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)