文献
J-GLOBAL ID:200902062951666162
整理番号:92A0089672
SIおよびGexSi1-xの超高真空化学蒸着エピタクシーに対する代替表面クリーニング法
Alternate Surface Cleaning Approaches for Ultra High Vacuum Chemical Vapor Deposition Epitaxy of Si and GexSi1-x.
著者 (4件):
RACANELLI M
(Carnegie Mellon Univ., Pennsylvania)
,
GREVE D W
(Carnegie Mellon Univ., Pennsylvania)
,
HATALIS M K
(Lehigh Univ., Pennsylvania)
,
VAN <span style=text-decoration:overline>Y ̈</span>ZENDOORN L J
(Philips Research Lab., Eindhoven, NLD)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
138
号:
12
ページ:
3783-3789
発行年:
1991年12月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)