文献
J-GLOBAL ID:200902063212708333
整理番号:86A0460450
反応性イオンエッチングおよびスパッタエッチングによるGaAsの表面損傷
Surface damage on GaAs induced by reactive ion etching and sputter etching.
著者 (1件):
PANG S W
(Massachusetts Inst. Technology)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
133
号:
4
ページ:
784-787
発行年:
1986年04月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)