文献
J-GLOBAL ID:200902063223610076
整理番号:87A0064735
X線定在波によるNiSi2/(111)Si界面の構造分析
Structure analysis of the NiSi2/(111)Si interface by the X-ray standing wave method.
著者 (4件):
AKIMOTO K
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
ISHIKAWA T
(National Lab. High Energy Physics, Ibaraki, JPN)
,
TAKAHASHI T
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
KIKUTA S
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名:
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section A. Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment
(Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section A. Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment)
巻:
246
号:
1/3
ページ:
755-759
発行年:
1986年05月15日
JST資料番号:
D0208B
ISSN:
0168-9002
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)