文献
J-GLOBAL ID:200902064036131047
整理番号:87A0029047
微調整用のマスク-ウエハ変位の光ヘテロダイン検出
Optical-heterodyne detection of mask-to-wafer displacement for fine alignment.
著者 (2件):
ITOH J
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
,
KANAYAMA T
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
25
号:
8
ページ:
L684-L686
発行年:
1986年08月
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)