文献
J-GLOBAL ID:200902064047313341
整理番号:90A0221944
化学蒸着ダイアモンド膜の抵抗率
Resistivity of chemical vapor deposited diamond films.
著者 (2件):
LANDSTRASS M I
(Crystallume, California)
,
RAVI K V
(Crystallume, California)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
55
号:
10
ページ:
975-977
発行年:
1989年09月04日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)