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文献
J-GLOBAL ID：200902064231906037
整理番号：90A0804488
Novolak design for high resolution positive photoresists (III). a selection principle of phenolic compounds for novolak resins.
HANABATA M
(Sumitomo Chemical Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
FURUTA A
(Sumitomo Chemical Co., Ltd., Osaka, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 1262 ページ： 476-482 発行年： 1990年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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