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文献
J-GLOBAL ID：200902066200566478
整理番号：82A0362551
形状可変電子線リソグラフィー装置,EB55 I システム設計
Variably shaped electron beam lithography system, EB55: I. System design.
FUJINAMI M
(Musashino Electrical Communication Lab., Tokyo)
,
MATSUDA T
(Musashino Electrical Communication Lab., Tokyo)
,
TAKAMOTO K
(Musashino Electrical Communication Lab., Tokyo)
,
YODA H
(Hitachi, Ltd., Tokyo)
,
ISHIGA T
(Hitachi, Ltd., Tokyo)
,
SAITOU N
(Hitachi, Ltd., Tokyo)
,
KOMODA T
(Hitachi, Ltd., Tokyo)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology
(Journal of Vacuum Science & Technology)
巻： 19 号： 4 ページ： 941-945 発行年： 1981年11月
JST資料番号： C0789A ISSN： 0022-5355 CODEN： JVSTAL 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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