文献
J-GLOBAL ID:200902066480170566
整理番号:89A0527621
アルミニウムとシリコンの間の拡散障壁の形成の成功と失敗の機構
Mechanisms for success or failure of diffusion barriers between aluminum and silicon.
著者 (5件):
HARPER J M E
(IBM Thomas J. Watson Research Center, NY, USA)
,
HOERNSTROEM S E
(IBM Thomas J. Watson Research Center, NY, USA)
,
THOMAS O
(IBM Thomas J. Watson Research Center, NY, USA)
,
CHARAI A
(IBM Thomas J. Watson Research Center, NY, USA)
,
KRUSIN-ELBAUM L
(IBM Thomas J. Watson Research Center, NY, USA)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
7
号:
3 Pt.1
ページ:
875-880
発行年:
1989年05月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)