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文献
J-GLOBAL ID：200902067982606631
整理番号：92A0555567
化学的蒸気浸透条件下でCH3SiCl3/H2から析出した炭化けい素の酸化速度論
Oxidation kinetics of SiC deposited from CH3SiCl3/H2 under CVI conditions.
FILIPUZZI L
(Lab. Composites Thermostructuraux, CNMS, Pessac, FRA)
,
NASLAIN R
(Lab. Composites Thermostructuraux, CNMS, Pessac, FRA)
,
JAUSSAUD C
資料名：
Journal of Materials Science
(Journal of Materials Science)
巻： 27 号： 12 ページ： 3330-3334 発行年： 1992年06月15日
JST資料番号： B0722A ISSN： 0022-2461 CODEN： JMTSAS 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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