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文献
J-GLOBAL ID：200902068277209069
整理番号：93A0058837
プラズマエッチングでの微視的均一性
Microscopic uniformity in plasma etching.
GOTTSCHO R A
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
JURGENSEN C W
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
VITKAVAGE D J
(AT&T Bell Lab., Pennsylvania)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 10 号： 5 ページ： 2133-2147 発行年： 1992年09月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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