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文献
J-GLOBAL ID：200902071421492197
整理番号：92A0202911
急速熱処理を用いSi(100)にチタンやコバルトゲルマニウム化合物を形成
Formation of Titanium and Cobalt Germanides on Si(100) Using Rapid Thermal Processing.
ASHBURN S P
(North Carolina State Univ., NC)
,
OEZTUERK M C
(North Carolina State Univ., NC)
,
WORTMAN J J
(North Carolina State Univ., NC)
,
HARRIS G
(North Carolina State Univ., NC)
,
HONEYCUTT J
(North Carolina State Univ., NC)
,
MAHER D M
(North Carolina State Univ., NC)
資料名：
Journal of Electronic Materials
(Journal of Electronic Materials)
巻： 21 号： 1 ページ： 81-86 発行年： 1992年01月
JST資料番号： D0277B ISSN： 0361-5235 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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