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文献
J-GLOBAL ID：200902071435266220
整理番号：93A0151536
反応性マグネトロンスパッタ過程におけるZr-C薄膜の蒸着とプラズマ重合した炭化水素膜
Deposition of Zr-C thin films and plasma-polymerized hydrocarbon films in the reactive magnetron sputtering process.
YOSHITAKE M
(Osaka Prefectural Industrial Technology Research Inst., Osaka, JPN)
,
NOSAKA T
(Osaka Prefectural Industrial Technology Research Inst., Osaka, JPN)
,
OKAMOTO A
(Osaka Prefectural Industrial Technology Research Inst., Osaka, JPN)
,
OGAWA S
(Osaka Prefectural Industrial Technology Research Inst., Osaka, JPN)
,
NISHIKAWA K
(Zojirushi Corp., Osaka, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 221 号： 1/2 ページ： 72-78 発行年： 1992年12月10日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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