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文献
J-GLOBAL ID：200902072495121880
整理番号：89A0131215
Si(100)面と原子状水素の反応によるSi水素化物のエッチ生成物
Silicon hydride etch products from the reaction of atomic hydrogen with Si(100).
GATES S M
(IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA)
,
KUNZ R R
(IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA)
,
GREENLIEF C M
(IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA)
資料名：
Surface Science
(Surface Science)
巻： 207 号： 2/3 ページ： 364-384 発行年： 1989年01月
JST資料番号： C0129B ISSN： 0039-6028 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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