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文献
J-GLOBAL ID:200902073461932788   整理番号:89A0464796

レーザ物理蒸着による窒化チタン膜の低温処理

Low-temperature processing of titanium nitride films by laser physical vapor deposition.
著者 (5件):
BIUNNO N
(North Carolina State Univ., NC, USA)
NARAYAN J
(North Carolina State Univ., NC, USA)
HOFMEISTER S K
(North Carolina State Univ., NC, USA)
SRIVATSA A R
(North Carolina State Univ., NC, USA)
SINGH R K
(North Carolina State Univ., NC, USA)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 54  号: 16  ページ: 1519-1521  発行年: 1989年04月17日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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