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文献
J-GLOBAL ID：200902073461932788
整理番号：89A0464796
レーザ物理蒸着による窒化チタン膜の低温処理
Low-temperature processing of titanium nitride films by laser physical vapor deposition.
BIUNNO N
(North Carolina State Univ., NC, USA)
,
NARAYAN J
(North Carolina State Univ., NC, USA)
,
HOFMEISTER S K
(North Carolina State Univ., NC, USA)
,
SRIVATSA A R
(North Carolina State Univ., NC, USA)
,
SINGH R K
(North Carolina State Univ., NC, USA)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 54 号： 16 ページ： 1519-1521 発行年： 1989年04月17日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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