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文献
J-GLOBAL ID：200902073709095730
整理番号：86A0484937
反応制限プロセスにより作製された薄いエピタキシャルシリコン膜の少数キャリア性質
Minority-carrier properties of thin epitaxial silicon films fabricated by limited reaction processing.
STURM J C
(Stanford Univ., California)
,
GRONET C M
(Stanford Univ., California)
,
GIBBONS J F
(Stanford Univ., California)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 59 号： 12 ページ： 4180-4182 発行年： 1986年06月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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