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文献
J-GLOBAL ID：200902074377272884
整理番号：86A0338964
MOSLSIマスクレイアウトパターンの平面図的二次元解析
An ichnographic two-dimensional analysis of the MOSLSI mask layout pattern.
NATORI K
(Toshiba Corp., Kawasaki)
資料名：
IEEE Journal of Solid-State Circuits
(IEEE Journal of Solid-State Circuits)
巻： 21 号： 3 ページ： 457-463 発行年： 1986年06月
JST資料番号： B0761A ISSN： 0018-9200 CODEN： IJSCBC 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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