文献
J-GLOBAL ID:200902076094383836
整理番号:87A0189108
X線光電子損失分光によるスパッタ蒸着AlN及びAl2O3のキャラクタリゼーション
Characterization of sputter deposited Al-nitride and Al-oxide by X-ray photoelectron loss spectroscopy.
著者 (4件):
KUBIAK C J G
(Univ. Wisconsin-Milwaukee, WI, USA)
,
RUBIN AITA C
(Univ. Wisconsin-Milwaukee, WI, USA)
,
TRAN N C
(Univ. Wisconsin-Madison, WI, USA)
,
BARR T L
(Univ. Wisconsin-Milwaukee, WI, USA)
資料名:
Defect Properties and Processing of High-Technology Nonmetallic Materials
(Defect Properties and Processing of High-Technology Nonmetallic Materials)
ページ:
379-386
発行年:
1986年
JST資料番号:
K19870087
ISBN:
0-931837-25-1
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)