文献
J-GLOBAL ID:200902076751882210
整理番号:86A0284624
レジスト材料の集束イオンビームエッチング
Focused ion beam etching of resist materials.
著者 (4件):
HARAKAWA K
(National Defense Academy, Yokosuka)
,
YASUOKA Y
(National Defense Academy, Yokosuka)
,
GAMO K
(Osaka Univ.)
,
NAMBA S
(Osaka Univ.)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
4
号:
1
ページ:
355-357
発行年:
1986年01月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)