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文献
J-GLOBAL ID：200902077830238969
整理番号：90A0458669
CH4/H2/ArにおけるInPの電子サイクロトロン共鳴プラズマエッチング
Electron cyclotron resonance plasma etching of InP in CH4/H2/Ar.
PEARTON S J
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
CHAKRABARTI U K
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
KINSELLA A P
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
JOHNSON D
(Plasma Therm, Inc., New Jersey)
,
CONSTANTINE C
(Plasma Therm, Inc., New Jersey)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 56 号： 15 ページ： 1424-1426 発行年： 1990年04月09日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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