文献
J-GLOBAL ID:200902079121417089
整理番号:87A0260560
超高真空反応炉でのrfグロー放電で作ったa-Si,Ge:H,F合金の性質
Properties of a-Si, Ge:H,F alloys prepared by rf glow discharge in an ultrahigh vacuum reactor.
著者 (5件):
KOLODZEY J
(Princeton Univ., NJ, USA)
,
ALJISHI S
(Princeton Univ., NJ, USA)
,
SCHWARZ R
(Princeton Univ., NJ, USA)
,
SLOBODIN D
(Princeton Univ., NJ, USA)
,
WAGNER S
(Princeton Univ., NJ, USA)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
4
号:
6
ページ:
2499-2504
発行年:
1986年11月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)