文献
J-GLOBAL ID:200902081282812772
整理番号:88A0185351
レーザ化学蒸着による窒化けい素と酸化けい素の選択領域付着と微小レンズの作製
Selective area deposition of silicon-nitride and silicon-oxide by laser chemical vapor deposition and fabrication of microlenses.
著者 (3件):
SUGIMURA A
(Toyohashi Univ. Technology, Toyohashi, JPN)
,
FUKUDA Y
(Toyohashi Univ. Technology, Toyohashi, JPN)
,
HANABUSA M
(Toyohashi Univ. Technology, Toyohashi, JPN)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
62
号:
8
ページ:
3222-3227
発行年:
1987年10月15日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)