文献
J-GLOBAL ID:200902081689577875
整理番号:92A0050694
プラズマ処理中におけるラスタレーザ光散乱研究 粒子汚染捕獲現象
Rastered laser light scattering studies during plasma processing: Particle contamination trapping phenomena.
著者 (3件):
SELWYN G S
(IBM Research Division, New York)
,
HEIDENREICH J E
(IBM Research Division, New York)
,
HALLER K L
(IBM Research Division, New York)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
9
号:
5
ページ:
2817-2824
発行年:
1991年09月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)