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J-GLOBAL ID：200902083462219070 整理番号：89A0142129

単結晶および多結晶Ni薄膜における磁気特性と真の応力との相互依存性

Interdependence of magnetic properties and intrinsic stress in mono- and polycrystalline thin nickel films.

著者 (3件)：

SHIH C Y

(Carnegie Mellon Univ., PA, USA)

BAUER C L

(Carnegie Mellon Univ., PA, USA)

ARTMAN J O

(Carnegie Mellon Univ., PA, USA)

資料名：

Journal of Applied Physics (Journal of Applied Physics)

巻： 64 号： 10 Pt.2 ページ： 5428-5430 発行年： 1988年11月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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