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文献
J-GLOBAL ID：200902084350955209
整理番号：88A0042546
CO2レーザによるSiおよびSi3N4表面酸化反応層の形成と表面層の除去機構
CO2 laser-induced surface oxidation and etching of Si and Si3N4.
土屋八郎
(京都工繊大 工芸)
,
後藤英和
(京都工繊大 工芸)
,
森勇蔵
(大阪大 工)
,
広瀬喜久治
(帝国女大)
,
遠藤勝義
(大阪大 工)
,
山内和人
(大阪大 工)
,
宮崎真
(京都工繊大 工芸)
,
西雅文
(三洋電機)
資料名：
精密工学会誌
(Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 53 号： 11 ページ： 1765-1771 発行年： 1987年11月
JST資料番号： F0268A ISSN： 0912-0289 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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