文献
J-GLOBAL ID:200902084454430540
整理番号:86A0384131
シリコンに対するMo-W合金の界面反応
Interfacial reaction of Mo-W alloys with silicon.
著者 (4件):
OLOWOLAFE J O
(Cornell Univ., NY)
,
COLGAN E G
(Cornell Univ., NY)
,
PALMSTR<span style=text-decoration:overline>O </span>M C J
(Cornell Univ., NY)
,
MAYER J W
(Cornell Univ., NY)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
138
号:
2
ページ:
245-254
発行年:
1986年04月15日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)