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文献
J-GLOBAL ID：200902085201710690
整理番号：91A0658219
マイクロエレクトロニクス応用のためのW/Cu/W層状膜の制御したイオンビームスパッタ蒸着
Controlled ion beam sputter deposition of W/Cu/W layered films for microelectronic applications.
AUCIELLO O
(Microelectronics Center of North Carolina, North Carolina)
,
CHEVACHAROENKUL S
(Microelectronics Center of North Carolina, North Carolina)
,
AMEEN M S
(North Carolina State Univ., North Carolina)
,
DUARTE J
(Microelectronics Center of North Carolina, North Carolina)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 9 号： 3 Pt 1 ページ： 625-631 発行年： 1991年05月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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