文献
J-GLOBAL ID:200902085835058848
整理番号:92A0363468
押込中のシリコンとゲルマニウム上金属コンタクトの電気抵抗
Electrical resistance of metallic contacts on silicon and germanium during indentation.
著者 (7件):
PHARR G M
(Rice Univ., Texas)
,
OLIVER W C
(Oak Ridge National Lab., Tennessee)
,
COOK R F
(IBM Research Division, New York)
,
KIRCHNER P D
(IBM Research Division, New York)
,
KROLL M C
(IBM Research Division, New York)
,
DINGER T R
(IBM Research Division, New York)
,
CLARKE D R
(Univ. California at Santa Barbara, California)
資料名:
Journal of Materials Research
(Journal of Materials Research)
巻:
7
号:
4
ページ:
961-972
発行年:
1992年04月
JST資料番号:
D0987B
ISSN:
0884-2914
CODEN:
JMREEE
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)