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文献
J-GLOBAL ID：200902086011618042
整理番号：86A0397130
プラズマ化学およびプラズマ過程のプラズマ源としてのマイクロ波およびラジオ波の表面波による放電
Microwave and RF surface wave sustained discharges as plasma sources for plasma chemistry and plasma processing.
CHAKER M
(Univ. Montr<span style=text-decoration:overline>e ́</span>al, Canada)
,
MOISAN M
(Univ. Montr<span style=text-decoration:overline>e ́</span>al, Canada)
,
ZAKRZEWSKI Z
(Univ. Montr<span style=text-decoration:overline>e ́</span>al, Canada)
資料名：
Plasma Chemistry and Plasma Processing
(Plasma Chemistry and Plasma Processing)
巻： 6 号： 1 ページ： 79-96 発行年： 1986年03月
JST資料番号： H0836A ISSN： 0272-4324 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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