文献
J-GLOBAL ID:200902086423250988
整理番号:90A0157298
シリコン熱酸化のオゾンによる増強
Enhancement in thermal oxidation of silicon by ozone.
著者 (3件):
CHAO S C
(Drexel Univ., Pennsylvania)
,
PITCHAI R
(Drexel Univ., Pennsylvania)
,
LEE Y H
(Drexel Univ., Pennsylvania)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
136
号:
9
ページ:
2751-2752
発行年:
1989年09月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)