文献
J-GLOBAL ID:200902086463608494
整理番号:92A0119140
酸化タンタル膜の化学蒸着におけるタンタル源としてのペンタ-ジメチル-アミノ-タンタルの適用
Application of Penta-Di-Methyl-Amino-Tantalum to a Tantalum Source in Chemical Vapor Deposition of Tantalum Oxide Films.
著者 (4件):
TABUCHI T
(Nippon Sanso Corp., Kanagawa)
,
SAWADO Y
(Nippon Sanso Corp., Kanagawa)
,
UEMATSU K
(Nippon Sanso Corp., Kanagawa)
,
KOSHIBA S
(Nippon Sanso Corp., Kanagawa)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
30
号:
11B
ページ:
L1974-L1977
発行年:
1991年11月15日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)